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熱設(shè)計網(wǎng)

北大聯(lián)合諾獎得主,最新電子器件熱管理綜述

熱設(shè)計

來源 | Applied Physics Reviews

原文 | https://doi.org/10.1063/5.0185305


01 背景介紹


隨著新型半導(dǎo)體材料的研究和應(yīng)用,微納電子器件的發(fā)展進入一個新時代。散熱問題成為阻礙高性能大功率電子器件發(fā)展的主要技術(shù)瓶頸。比如,對于氮化鎵射頻器件,結(jié)點溫度每上升10℃,器件的平均壽命就會下降為原來的一半,過高的工作溫度將嚴(yán)重影響器件的性能和可靠性。隨著半導(dǎo)體器件向緊湊化和高度集成化發(fā)展,先進熱管理技術(shù)成為各國競爭的關(guān)鍵核心技術(shù)。


02 成果掠影


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近日,北京大學(xué)黃如院士、程哲研究員團隊聯(lián)合諾獎得主天野浩院士團隊發(fā)表電子器件熱管理綜述文章。功率和射頻電子的發(fā)展進入了一個(超)寬帶隙半導(dǎo)體(如GaN, SiC和b-Ga2O3)的新時代,推動了各種技術(shù)的重大進步。高擊穿電壓和最小導(dǎo)通電阻微型化和節(jié)能的關(guān)鍵問題之一。然而,有效的熱管理技術(shù)成為一個關(guān)鍵的挑戰(zhàn),特別是當(dāng)推動設(shè)備在其電子極限下運行以獲得最大輸出功率時。為了解決這些熱障礙,對半導(dǎo)體異質(zhì)結(jié)構(gòu)中的熱傳導(dǎo)進行全面的研究是必不可少的。本文綜述了用于電子冷卻的(超)寬帶隙半導(dǎo)體異質(zhì)結(jié)構(gòu)的最新進展,分為四個部分。第一部分概述了(超)寬帶隙半導(dǎo)體異質(zhì)結(jié)構(gòu)的材料生長和熱性能。第二部分討論了非均質(zhì)集成技術(shù)和鍵合界面的熱邊界導(dǎo)率。第三部分主要介紹了TBC的研究進展,包括熱表征的進展、實驗和理論的加強以及對TBC的基本認(rèn)識。第四部分將重點轉(zhuǎn)移到電子器件上,通過模擬和實驗對這些異質(zhì)結(jié)構(gòu)的冷卻效應(yīng)進行了研究。最后,本綜述還確定了未來研究的目標(biāo)、挑戰(zhàn)和潛在途徑。它旨在通過新材料開發(fā)、創(chuàng)新集成技術(shù)、新器件設(shè)計和先進的熱表征來推動電子冷卻的進步。解決這些挑戰(zhàn)并促進持續(xù)進步有望實現(xiàn)在電子極限下運行的高性能,高輸出功率和高度可靠的電子設(shè)備。研究成果以“(Ultra)wide bandgap semiconductor heterostructures for electronics cooling ”為題發(fā)表在《Applied Physics Reviews》期刊。


03 圖文導(dǎo)讀


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圖1.高效熱管理技術(shù)在半導(dǎo)體器件中具有重大意義。


(1)晶圓級高質(zhì)量(超)寬禁帶半導(dǎo)體晶體材料生長. 高質(zhì)量和高純度材料的生長對于實現(xiàn)高導(dǎo)熱性至關(guān)重要。文章提供了高導(dǎo)熱材料的最新測量導(dǎo)熱系數(shù)和晶片尺寸的總結(jié)。


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圖2. 各種半導(dǎo)體材料的導(dǎo)熱系數(shù)和晶圓尺寸。

(2)針對電子器件熱管理的異質(zhì)集成技術(shù). 僅僅提高半導(dǎo)體材料的質(zhì)量并不能充分解決電子器件的散熱難題,對于器件復(fù)雜的多層結(jié)構(gòu),需要充分利用半導(dǎo)體鍵合技術(shù),實現(xiàn)(超)寬禁帶半導(dǎo)體與高導(dǎo)熱材料的高效緊密結(jié)合。文章探討了(超)寬禁帶半導(dǎo)體中常用的親水鍵合(Hydrophobic bonding)、等離子體鍵合(Plasma bonding)、表面活化鍵合(Surface-activated bonding SAB)和智能切割(Smart-cut)技術(shù)等異質(zhì)鍵合方法,并對不同方法制備的(超)寬禁帶半導(dǎo)體的界面TBC進行了較為全面的總結(jié)對比。


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圖3.不同鍵合方法的總結(jié)。


(3)界面熱阻的先進熱表征技術(shù)、增強界面?zhèn)鳠岬膶嶒灪屠碚撎骄考敖缑婢钟蚵曌幽5睦碚摾斫? 對于微納米電子器件,界面熱阻成為制約器件散熱的關(guān)鍵熱阻來源。特別是對于局域熱點的均熱問題,如何研究和降低界面熱阻成為下一步技術(shù)發(fā)展的核心。文章總結(jié)了界面熱阻的測量技術(shù),以及現(xiàn)有文獻中的界面熱阻的實驗測量值,討論了降低界面熱阻的技術(shù)方案,最后從界面聲子物理機制出發(fā),討論了近年來在界面熱阻的理論理解方面的進展。


(4)電子器件上的異質(zhì)結(jié)構(gòu)冷卻方法的模擬和實驗研究. 在電子器件的設(shè)計階段,通過有限元模擬和解析解等方法,可以實現(xiàn)器件級模擬,預(yù)測器件在實際工作條件下的溫度分布。文章調(diào)研了多指器件的熱串?dāng)_效應(yīng)、不同的器件冷卻策略(頂部、底部以及雙面冷卻)以及界面熱阻對溫度分布的影響等多項模擬工作,并通過熱反射測溫法,柵極電阻測溫法等分析了在實際器件上應(yīng)用多種不同散熱技術(shù)的實驗演示工作,更加直觀地揭示和評估了各材料、結(jié)構(gòu)和散熱技術(shù)的冷卻效果。

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圖4.  氮化鎵器件的全方位金剛石冷卻。


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圖5. β-Ga2O3器件的頂部冷卻。

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